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砷化镓研磨液过滤

工业半导体生产中研磨和抛光工段废液通常集中处理。集中后的废液中含有抛光液含氧化铝、次氯酸钠、砷化镓等多种组份,废液呈悬浊状。通常环保排放对含砷总量排放要求<0.5mg/L,而传统处理方式如絮凝板框等已达不能达到该环保排放要求。南京九游会J9数字工业采用纳滤分离技术可实现该工艺段对砷化镓的精细化处理。以下为某国营半导体生产企业现场中试情况,实验结果显示含砷总量远低于排放要求数值,符合排放规定。
预处理要求
物料经过预处理工序后的含砷废液,预处理后的废液中不能 含有铁、焊渣、沙石等金属或非金属固体硬颗粒。无棉絮、破布、编制袋丝等絮状物体。
设备运行过程
原料罐中的废液经供料泵送入至砷化镓精处理过滤设备,该成套设备配有循环泵,以保持恒定的操作压力和流速。废液在压力的作用下,清液透过分离后被收集至清液罐或排放;含砷化镓被截留分离至浓液侧。完成分离后停止,停机待后续工艺。期间为保证砷化镓分离设备稳定运行,设备设置了自动反冲洗程序。
设备排渣、清洗过程
砷化镓过滤设备配置在线自动清洗控制,在生产过程中,使用一段时间后,研磨液、抛光液中的各种组分均有可能在设备内部和表面形成堵塞,这些吸附在内层表面和污染物如不及时去除,将影响半导体研磨液过滤设备性能,表现为处理量逐步衰减。因此必须周期性的对砷化镓浓缩设备进行清洗再生,以恢复系统的液固分离性能。主要通过专业清洗和反吹以及化学清洗恢复再生。我公司在设备交付后,提供专业培训,直至用户掌握操作维护技能,具备现场生产和管理能力。
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